【滋賀】イオン注入装置の新事業開拓

職種

FAE／サービスエンジニア(機械)

勤務地

滋賀県甲賀市水口町ひのきが丘29　滋賀事業所

年収

577万～753万円

仕事内容

当社は半導体／ディスプレイ関連の機械装置メーカーとして、設計・開発から製造・販売・アフターサービスまでを全て一貫して行っている会社です。

【業務内容】
■顧客との対話、半導体デバイス技術動向調査を通じ、顧客のプロセスに対するニーズを把握：
顧客のニーズを把握するために、顧客との面談、学会講演・セミナーの聴講、技術論文・業界レポートの調査を行って頂きます。

■半導体分野におけるイオン注入の新しい用途・技術を開拓：
イオン注入技術を学んでいただきます。把握したニーズと組み合わせ、将来のビジネスにつながるイオン注入の新しい用途仮説を立てていただきます。実験を通じて仮説を検証し、顧客に提案する新しい用途・技術とします。

■新しい用途・技術の顧客プロモーション：
当社装置、技術のプロモーションのため、顧客との面談（対面、オンライン）、学会での発表、展示会への出展を行います。そのために必要なプレゼンテーション・論文の作成、展示ブースのアレンジ、その他必要な業務を担当して頂きます。

【当社について】：
■当社は半導体／ディスプレイ関連の機械装置メーカーとして、設計・開発から製造・販売・アフターサービスまでを全て一貫して行っている会社です。1973年の事業開始以来、高機能半導体製造用途においてはこれまで約1000台を世界各地の大手半導体メーカーや電機メーカーへ納入しています。またディスプレイ製造用途においては半導体製造用途で培った技術力を活かし1988年に事業をスタート、今では当社装置はスマートフォンやタブレット端末向けの高輝度・高精細ディスプレイ製造に不可欠なものと位置づけられ、世界シェア100％で市場を独占するに至りました。
■2020年8月、イノベーションの拠点となる新棟「LINK SQUARE（リンクスクエア）」を滋賀事業所内に竣工。これまで京都・滋賀に分散していた開発・設計・製造・顧客サービス部門を統合し、開放的で快適なオフィス環境の下、よりユニークでより付加価値の高い技術・製品・サービスの創出・提供に取り組んでいます。
■日新電機株式会社（住友電工グループ）の100％子会社です。親会社と同等の福利厚生制度や独自の労働組合を有し、また誰とでも「○○さん」と呼び合うフランクで風通しの良い社風や新卒採用者定着率の高さなど、安心して業務に打ち込める環境が整っています。

【変更の範囲】会社の定める業務

応募条件

【必須】
■半導体の研究開発又は製造経験3年以上
■英語力（英文メールでコミュニケーションが取れ、英語論文を読み取り、日常会話ができるレベル）
【歓迎】
■新事業開拓の業務経験
■半導体物理の知識
■国際学会での発表経験

休日休暇

年次有給休暇（入社初日より入社月に応じて1～17 日付与）、慶弔休暇、誕生日休暇、ゆとり休暇、産前産後休暇、配偶者の出産休暇、介護休暇、育児・介護休業、育児・介護短時間勤務制度

年間休日数

128日

就業時間

08:30～17:00

企業概要

日新電機株式会社（住友電工グループ）の100％子会社。半導体/ディスプレイ関連の機械装置メーカーで設計・開発から製造・販売・アフターサービスまでを全て一貫して行っている会社です。1973年の事業開始以来、高機能半導体製造用途においてはこれまで約1000台を世界各地の大手半導体メーカーや電機メーカーへ納入しています。またディスプレイ製造用途においては半導体製造用途で培った技術力を活かし1988年に事業をスタート、今では当社装置はスマートフォンやタブレット端末向けの高輝度・高精細ディスプレイ製造に不可欠なものと位置づけられ、世界シェア100％で市場を独占するに至りました。2020年8月、イノベーションの拠点となる新棟「LINK SQUARE（リンクスクエア）」を滋賀事業所内に竣工。これまで京都・滋賀に分散していた開発・設計・製造・顧客サービス部門を統合し、開放的で快適なオフィス環境の下、よりユニークでより付加価値の高い技術・製品・サービスの創出・提供に取り組んでいます。

【事業概要】
■装置事業：半導体製造用イオン注入装置、FPD製造用イオン注入機器
■カスタマーサービス：定期点検サービス、装置移設サービス、装置改造・改良サービス、緊急修理対応サービス、部品供給サービス
■イオン注入サービス：シリコンデバイスへの高精度・高清浄度イオン注入、SiC & GaN & Ga2O3 パワーデバイスへの高温Al+、Si+、Mg+ 注入、高濃度水素注入によるGaN、SiC スマートカット、高エネルギー水素注入「VCSEL (Vertical cavity surface emitting LASER)」、特別なイオン種等を用いた先端プロセス開発

従業員数

314人