ハードシステム開発・設計（次世代のリーダー候補） ＜A-4＞

職種

回路設計

勤務地

神奈川県横浜市磯子区新杉田町8番1

年収

400万～1,100万円

仕事内容

【業務内容】
電子ビームマスク描画装置内のデータパス・描画制御部において、マスクパターンデータの変換やデジタル高速演算処理、リアルタイムにデータ補正を行うデジタル回路の開発を担当していただきます。
当社の主力製品である電子ビームマスク描画装置内のデータパス・描画制御部において、マスクパターンデータを制御部向けのデータに変換するデジタル高速演算処理や、リアルタイムにデータ補正を行うデジタル回路の開発を担当していただきます。
具体的には下記の業務をお任せします。
・ハードウェア仕様検討（各モジュールのIF仕様を含む）
・開発キット/カスタム基板等を用いての部品/回路評価
・設計（外注）
・製造（外注）
・評価方法検討
・評価ツール作成
※装置のシリーズ毎に分かれてご担当いただきます。

※ご経験に合わせて業務をお任せしますが、基本的には回路の簡単な評価業務から取り組んでいただく予定です。

■上記業務内では下記のようなシーンで達成感を感じていただけます
・制御回路システムでの試験
小規模なレイアウトデータの空描画が流れた(疎通テストがOK)時や、マークスキャン(ビーム調整評価)が正常にできた時。
1、2ヶ月規模のデバック(修正→評価の繰り返し)が必要な時もあり、長期スパンで携わった業務が完了した時の達成感もひとしおです。
・描画装置システム全体での試験
大規模なレイアウトデータの空/実描画が流れた(システム統合試験がOK)時や、数ヶ月規模のデバック(修正→評価の繰り返し)が完了した時。

【キャリアステップ】
OJTを通じて業務に必要な知識・技能を習得いただき、入社後2～3年を目途に独り立ちしていただくことを期待しております。

【充実の研修・育成制度】
OJTによる実務フォローはもちろんのこと、社員一人一人に合わせた育成計画を作成しサポートいたします。
また、各種研修や部門内の勉強会なども積極的に行っており、1on1による業務支援（月1回、30分程度）もございます。
【組織構成】
6名※半導体業界未経験の方も在籍しております。

【電子ビームマスク描画装置の魅力】
スマートフォンやタブレットPCなど、私たちの生活になくてはならない通信機器の機能化、
小型・軽量化に影響を与えている半導体集積回路（LSI）の大量生産に大きく貢献してる装置です。
こうした更なる高密度化、微細化が求められているLSIにおいて、その微細化し複雑になる回路パターンの描画を可能にするのが、当社の電子ビームマスク描画装置であり、半導体そのものの技術革新にとってなくてはならない存在となっております。
現在市場の9割ものシェアを誇り、更なる装置の技術進化に向けて研究・開発を続けており、未だ世にない最先端の技術に触れたい方にはぴったりの職場となります。

【ポジションの魅力】
電子ビームマスク描画装置の心臓部ともいえる、ビームそのものの制御を司るモジュールの回路設計となり、装置の技術革新に大きな影響を与える部分を担っていただくことが可能です。
部署全体で一丸となって技術革新のための課題解決に取り組んでおりますので、わからないところは積極的に聞きにいける雰囲気があり、中途入社者も問題なく活躍できる環境です。

【組織の魅力】
電子ビームマスク描画装置の描画の心臓部であるハードウェアの設計開発に携わることによって、更なるスキルアップに繋がります。
電子ビームマスク描画装置の計算機・機械・電気・光学等、幅広い分野の知識を必要とし、更なるスキルアップに繋がります。
高速でデータ処理を行う必要があるため、最新の技術を利用したシステム開発に従事することができます。

応募条件

【必須】
制御回路基板(通信基板:NIC等も含む)の回路設計や、評価の基本的なベーススキルに加えて下記のいずれか経験をお持ちの方
・アナログ技術者の場合：DAC/OPAMPを扱った経験
・デジタル技術者の場合：FPGA/CPU(Arm/Soc)を扱った経験

※上記スキルがあれば、弊社の高速偏向アンプ及び偏向制御システムのエンジニアとして、技術スキル的に適応しやすいです。

休日休暇

完全週休二日制（土日）、祝日、年次有給休暇（初年度　入社時1～19日（入社月による）※最大24日　繰り越し含め最大48日）、夏季休暇、特別休暇、育児・介護休暇制度

年間休日数

125日

就業時間

08:45～17:30

企業概要

＜＜最先端半導体製造装置の設計、開発、製造、販売、保守サービス＞＞　★半導体の未来をリードし続けます
◆電子ビームマスク描画装置：5nm先端マスク量産対応の電子ビームマスク描画装置
◆マスク検査装置：最先端デバイスhp20nm以降世代の扉を開く技術を結集した最先端マスク検査装置
◆エピタキシャル成長装置：数μmから150μｍ以上の膜厚まで高速で連続成膜が出来る高効率・省エネ型の画期的なエピタキシャル成長装置（パワー半導体の製造工程に使用されます）
【特長】 半導体デバイスの微細化技術をリードする最先端の電子ビームマスク描画装置(EBM)を設計、開発を中心とした半導体製造装置メーカーです。
【就業環境】 平均残業時間25h/月、有給休暇の平均取得日数17.6日とワークライフバランスが充実しており、離職率も低く、長期的に就業できる環境が魅力です。平均年収：832万円

従業員数

799人