次世代電子ビームマスク描画装置の搬送ユニット機械制御システムの開発設計＜A-2＞

職種

制御設計

勤務地

神奈川県横浜市磯子区新杉田町8番1

年収

420万～1,100万円

仕事内容

■当社の主力製品である電子ビームマスク描画装置における、メカトロニクス部分の制御系システムの制御装置の開発および設計業務をお任せいたします。具体的にはマスクステージおよびマスク搬送ユニットの制御システム開発であり、下記の業務を一気通貫でお任せします。

1．マスクステージ制御システム、およびマスク搬送制御システムの開発
　・アクチュエータ／コントローラ／センサー等の調査・選定
　・機構部の要素開発
　・制御シーケンスの設計
2．上記システムの電気設計及び制御設計
　・制御用I/F基板や制御ユニットの設計
　・ハーネス設計

次世代、次々世代の装置に搭載する新しい要素技術の開発に携わることができ、試験機を立ち上げ、自ら評価することもございます。
例えば、直近では、従来描画装置とは全く新しいコンセプトの装置に搭載するマスクステージおよびマスク搬送機構のシステム開発に注力しており、その試作品設計を行っております。

【入社後まずは】
入社後は上記2．マスクステージ制御、もしくはマスク搬送制御ユニットのハード設計や評価・検証業務から取り組んでいただき、慣れてきたタイミングから徐々に1．機械制御系システムの開発業務をお任せいたします。イメージとしては外堀の部分から業務を習得いただき、徐々にコアな業務をお任せするような流れとなります。

【職場の魅力】
開発から設計、評価まで一連の流れを担当するため、マスクステージの複雑な機械を、実際に自分が思い描いた通りに動かすことができ、そういった瞬間に立ち会えることがやりがいを感じていただけるポイントです。
工作機械と比較すると求められる精度が異なり、本装置ならではの制約条件があり、非常にノイズを嫌う装置であるため、一つ製品を選定するにしても、低ノイズの製品を選定したり、なければ一から特殊仕様で開発したりと、細かなシステム設計が必要な業務です。

【電子ビームマスク描画装置の魅力】
スマートフォンやタブレットPCなど、私たちの生活になくてはならない通信機器の高機能化、小型・軽量化に影響を与えている半導体集積回路（LSI）の大量生産に大きく貢献してる装置です。
こうした更なる高密度化、微細化が求められているLSIにおいて、その微細化し複雑になる回路パターンの描画を可能にするのが、当社の電子ビームマスク描画装置であり、半導体そのものの技術革新にとってなくてはならない存在となっております。
現在市場の9割ものシェアを誇り、更なる装置の技術進化に向けて研究・開発を続けており、未だ世にない最先端の技術に触れたい方にはぴったりの職場となります。

【充実の研修・育成制度】
OJTによる実務フォローはもちろんのこと、各種研修や部門内の勉強会なども積極的に行っており、1on1による業務支援（月1回、30分程度）もございます。

１）職務内容の変更可能性
⇒有
２）職務内容変更の範囲
⇒会社の定める業務
３）勤務地の変更可能性
⇒有
４）勤務地変更の範囲
⇒海外現地法人を含む、当社各拠点

応募条件

【必須】■下記いずれかの経験をお持ちの方
・PLCの制御設計／デバッグ／評価業務経験
・何らかの装置／産業機械の制御設計経験
・何らかの装置／産業機械の電気設計経験
【歓迎】
アナログ/デジタル回路設計
※自分自身で回路CAD図を書けなくても、回路図を見て内容が理解できればOKです！

休日休暇

完全週休二日制（土日）、祝日、年次有給休暇（初年度　入社時1～19日（入社月による）※最大24日　繰り越し含め最大48日）、夏季休暇、特別休暇、育児・介護休暇制度

年間休日数

125日

就業時間

08:45～17:30

企業概要

＜＜最先端半導体製造装置の設計、開発、製造、販売、保守サービス＞＞　★半導体の未来をリードし続けます
◆電子ビームマスク描画装置：5nm先端マスク量産対応の電子ビームマスク描画装置
◆マスク検査装置：最先端デバイスhp20nm以降世代の扉を開く技術を結集した最先端マスク検査装置
◆エピタキシャル成長装置：数μmから150μｍ以上の膜厚まで高速で連続成膜が出来る高効率・省エネ型の画期的なエピタキシャル成長装置（パワー半導体の製造工程に使用されます）
【特長】 半導体デバイスの微細化技術をリードする最先端の電子ビームマスク描画装置(EBM)を設計、開発を中心とした半導体製造装置メーカーです。
【就業環境】 平均残業時間25h/月、有給休暇の平均取得日数17.6日とワークライフバランスが充実しており、離職率も低く、長期的に就業できる環境が魅力です。平均年収：832万円

従業員数

799人