HC　半導体装置の機械設計技術【23_A-11】

職種

機械設計

勤務地

神奈川県横浜市磯子区新杉田町8番1

年収

400万～1,100万円

仕事内容

【業務内容】
〇下記の業務を担当していただきます。
・電子ビームマスク描画装置構成ユニットの機能開発および設計業務

【職場や職務の魅力】
・電子ビームマスク描画装置の開発から設計・試作・製造まで幅広い工程に携われます。
・新規世代の描画装置を構成するサブユニットに対して、要素開発から設計・試作を、チームで協力して、製品化していくやりがいのある仕事が行えます。
・また、描画装置は、高精度かつ高い歩留の電子ビーム描画を実現する必要があるため、さまざまな技術の応用で構成されます。各技術領域の技術者と一緒に仕事ができるので、半導体製造装置の幅広い技術的な知見が将来的に身につけられます。

応募条件

【必須】
・機構設計の知識(材料力学・熱力学・流体力学・機械力学)や経験のある方
・機械系ユニットの計画図および組立図面の作図経験
・機構設計仕様書の作成経験
・英語　（ビジネスで最低限必要なレベル、TOEIC 500点以上が望ましい）
【歓迎】
・機械安全/SEMI規格の知識や経験
・真空装置設計の知識や経験
・測定結果の統計処理
・3D CADでのモデルおよび機械設計図面の作成経験
・CAE解析ソフト(Ansys等)を使用しての、シミュレーション経験

休日休暇

完全週休二日制（土日）、祝日、年次有給休暇（初年度　入社時1～19日（入社月による）※最大24日　繰り越し含め最大48日）、夏季休暇、特別休暇、育児・介護休暇制度

年間休日数

125日

就業時間

08:45～17:30

企業概要

＜＜最先端半導体製造装置の設計、開発、製造、販売、保守サービス＞＞　★半導体の未来をリードし続けます
◆電子ビームマスク描画装置：5nm先端マスク量産対応の電子ビームマスク描画装置
◆マスク検査装置：最先端デバイスhp20nm以降世代の扉を開く技術を結集した最先端マスク検査装置
◆エピタキシャル成長装置：数μmから150μｍ以上の膜厚まで高速で連続成膜が出来る高効率・省エネ型の画期的なエピタキシャル成長装置（パワー半導体の製造工程に使用されます）
【特長】 半導体デバイスの微細化技術をリードする最先端の電子ビームマスク描画装置(EBM)を設計、開発を中心とした半導体製造装置メーカーです。
【就業環境】 平均残業時間25h/月、有給休暇の平均取得日数17.6日とワークライフバランスが充実しており、離職率も低く、長期的に就業できる環境が魅力です。平均年収：832万円

従業員数

799人