電子ビームマスク描画装置の微細描画を支えるマスクステージの機械設計＜A-19＞

職種

機械設計

勤務地

神奈川県横浜市磯子区新杉田町8番1

年収

420万～1,100万円

仕事内容

当社の主力製品である電子ビームマスク描画装置におけるマスク描画用ステージやマスク搬送機構に関する要素開発および、機械設計業務をご担当いただきます。マスク搬送機構をまずはメインでご担当いただく予定です。
具体的には以下の業務をお任せいたします。
・電子ビームマスク描画装置の試作開発設計
・生産中止に関する対応や性能改善設計
・製造治工具の試作設計
・試作装置の組み立て業務　B18など

【業務の魅力】
現行の装置だけでなく、次世代・次々世代の装置に関する設計に携わることができ、最先端の装置を自らで設計し、組み立て、評価するといった一連の流れをすべて担当できますので、モノづくりの楽しさを存分に感じていただける職場です。
また、真空環境で使用できる部品の設計や磁性など、電子ビームに影響を与える要素を考慮した材料を扱えるのも特徴です。

【充実の研修・育成制度】
OJTによる実務フォローはもちろんのこと、各種研修や部門内の勉強会なども積極的に行っており、1on1による業務支援（月1回、30分程度）もございます。
32名（内、電子鏡筒担当：4名、マスク描画用ステージ担当：5名、マスク搬送機構担当：0名、その他は電気・ソフト担当）

【キャリアステップ】
OJTを通じて業務に必要な知識・技能を習得いただき、
入社後2～3年を目途に独り立ちしていただくことを期待しております。

【採用背景】
・次世代電子ビームマスク描画装置の描画精度が上がることで、メカ機構に対する要求も厳しくなり、要素開発業務の負荷が増え、現状のリソースでは対応できなくなることが予想されるため。
・要素開発をする場合には、試作装置の組み立てを行い、そこで得られた検証結果を設計にＦＢして行くが、今後の次世代装置の開発計画を鑑みると、この業務を加速させることが開発成功にとって必要不可欠となるため、本業務のへ人員を増強したいため。

【職場の魅力】
スマートフォンやタブレットPCなど、私たちの生活になくてはならない通信機器の高機能化、小型・軽量化に影響を与えている半導体集積回路（LSI）の大量生産に
大きく貢献してる装置です。こうした更なる高密度化、微細化が求められているLSIにおいて、その微細化し複雑になる回路パターンの描画を可能にするのが、当社の電子ビームマスク描画装置であり、半導体そのものの技術革新にとってなくてはならない存在となっております。
現在市場の9割ものシェアを誇り、更なる装置の技術進化に向けて研究・開発を続けており、未だ世にない最先端の技術に触れたい方にはぴったりの職場となります。

応募条件

【必須】下記いずれかのご経験をお持ちの方。
・アクチュエータやロボット等のメカトロニクスのシステム開発の経験をお持ちの方
・機構部（駆動部やロボットのアームなど動きモノ）の設計経験をお持ちの方

【歓迎】
・3D CADを用いた設計・シミュレーションの実務経験がある。　(強度、固有値、温度)
・真空装置設計経験がある。 (表面処理)
・Solidworks を用いた2D製作図面の作成経験がある。
・Solidworks PDMを利用した設計業務経験がある。
・英語　（ビジネスで最低限必要なレベルで）
・半導体業界未経験の方も歓迎

休日休暇

完全週休二日制（土日）、祝日、年次有給休暇（初年度　入社時1～19日（入社月による）※最大24日　繰り越し含め最大48日）、夏季休暇、特別休暇、育児・介護休暇制度

年間休日数

125日

就業時間

08:45～17:30

企業概要

＜＜最先端半導体製造装置の設計、開発、製造、販売、保守サービス＞＞　★半導体の未来をリードし続けます
◆電子ビームマスク描画装置：5nm先端マスク量産対応の電子ビームマスク描画装置
◆マスク検査装置：最先端デバイスhp20nm以降世代の扉を開く技術を結集した最先端マスク検査装置
◆エピタキシャル成長装置：数μmから150μｍ以上の膜厚まで高速で連続成膜が出来る高効率・省エネ型の画期的なエピタキシャル成長装置（パワー半導体の製造工程に使用されます）
【特長】 半導体デバイスの微細化技術をリードする最先端の電子ビームマスク描画装置(EBM)を設計、開発を中心とした半導体製造装置メーカーです。
【就業環境】 平均残業時間25h/月、有給休暇の平均取得日数17.6日とワークライフバランスが充実しており、離職率も低く、長期的に就業できる環境が魅力です。平均年収：832万円

従業員数

799人