【横浜】半導体成膜装置の装置動作ソフト開発設計＜C-1＞

職種

組み込み

勤務地

神奈川県横浜市磯子区新杉田町8番1

年収

420万～1,500万円

仕事内容

半導体製造装置（エピタキシャル成長装置）のソフトウェアエンジニアとして下記の業務を担当していただきます。

【具体的には】
■半導体製造装置（エピタキシャル成長装置）のソフトウェアエンジニアとして下記の業務を担当していただきます。
・社内開発設計業務
-装置を動作させるPLCソフトウェアの開発設計
-装置の動作状況を表示するPCにおけるソフトウェアの開発設計　
※使用言語：VC++、ラダー　等
・社外業務
-客先での装置不具合調査、修正対応
-客先での装置現地立ち上げ作業
※社外業務は3～4か月に１度、海外も含め２週間の出張が発生します

【エピタキシャル成長製造装置の特徴・強み】
電気自動車で使用される充電器や、通信技術の5G、6Gなどの基地局はエピタキシャル成長装置で製造されるパワー半導体がなければ急速充電あるいは高速通信ができず、また省エネ、脱炭素推進が可能なものとして注目をされております。

当社エピタキシャル成長装置は下記コア技術によって高品質な
エピタキシャル成長層の形成を可能としております。
(１)ウェーハの高速回転による高速かつ均一性の高い成膜
(２)緻密に設計された垂直方向のガスフローによる均一なガス濃度分布
(３)高精度な面状ヒーターに非接触で配置することで高い温度均一性と高速昇降温特性

特に(１)高速回転エピという技術が他社装置にはない独自の強みで、このコア技術により他社を凌駕する性能を出すことに成功しております。最先端かつ技術の高さで競合他社と差別化ができたため、海外の世界的に有名なメーカーや非常に入手困難な8インチSiCを製造しているメーカーからの注文も増えております。
そのため当社として注力しているかつ、拡大フェーズの製品でシェアを伸ばす一員として関わることが可能です。

また現在はエピタキシャル成長製造装置において(１)～(３)のコア技術の動作ソフトの開発に加え、ウェーハの自動搬送システムの新規開発が重要なミッションとなっております。

ウェーハは、日々製造技術が進化しており、従来のサイズより大きくかつ重くなっているため、搬送の難易度が高くなっております。
加えて製造工程でウェーハにごみの付着は品質に大きくかかわるため、人を介さずロボットで搬送をすることで、品質の担保、破損を防ぐことが期待できます。

特に当社のお客様が取り扱うSiCウェーハは、シリコンウェーハと比較して非常に高価なため、より歩留まりの安定性が求められております。

そのため当社では、お客様の製造装置との連携も含め、自動搬送システムの新規開発を進め、他社製品との差別化を図っており、これら新技術に開発にかかわることも可能です。

【配属組織】
約50名（サービス技術グループ、研究開発グループ、設計グループの3グループで構成）
組織の約半数がキャリア入社の従業員のため、安心してご入社いただけます。

20代～50代と幅広い世代で構成されている組織です。
いいものを作るためであれば新しいチャレンジをすることを推奨する風土で、また高い技術力を維持するために高い開発費用を用意しております。

【充実の研修・育成制度】
OJTによる丁寧な実務フォローをはじめ、学びの場を多数ご用意しています。
各種研修や部門の中で勉強会も開催。
半導体製造装置や環境、品質などテーマは多岐にわたります。
1on1による業務支援（月1回、30分程度）もございます。

応募条件

【必須】
■工業製品における何かしらのソフト開発経験（PLC経験者歓迎）
■長期出張（国内外）が可能な方
【歓迎】
■半導体製造装置(熱CVD装置)で使用されるガスや、真空装置の取り扱い経験がある方
■打ち合わせや現地作業時に、お客様と円滑にコミュニケーションができる方
■モノづくりに対する熱意がある方
■減圧、真空装置の経験がある方
■英語でのコミュニケーションが可能な方

休日休暇

完全週休二日制（土日）、祝日、年次有給休暇（初年度　入社時1～19日（入社月による）※最大24日　繰り越し含め最大48日）、夏季休暇、特別休暇、育児・介護休暇制度

年間休日数

125日

就業時間

08:45～17:30

企業概要

＜＜最先端半導体製造装置の設計、開発、製造、販売、保守サービス＞＞　★半導体の未来をリードし続けます
◆電子ビームマスク描画装置：5nm先端マスク量産対応の電子ビームマスク描画装置
◆マスク検査装置：最先端デバイスhp20nm以降世代の扉を開く技術を結集した最先端マスク検査装置
◆エピタキシャル成長装置：数μmから150μｍ以上の膜厚まで高速で連続成膜が出来る高効率・省エネ型の画期的なエピタキシャル成長装置（パワー半導体の製造工程に使用されます）
【特長】 半導体デバイスの微細化技術をリードする最先端の電子ビームマスク描画装置(EBM)を設計、開発を中心とした半導体製造装置メーカーです。
【就業環境】 平均残業時間25h/月、有給休暇の平均取得日数17.6日とワークライフバランスが充実しており、離職率も低く、長期的に就業できる環境が魅力です。平均年収：832万円

従業員数

799人