【各務原】71-1：製品開発系ポジションサーチ

職種

製品開発／研究開発(化学)

勤務地

岐阜県各務原市テクノプラザ1-8（研究開発センター）

年収

530万～800万円

仕事内容

【業務】既存製品のマイナーチェンジをすることで満足せず、未解明の原理・機構を解明し、有機、無機の広範な化学知見に裏づけされた新規技術・新規製品の開発に取り組みます。お客様の技術ニーズに迅速に応えるため、定期的にお客様との技術打合せが発生する可能性もございます。
【詳細】
■研磨対象物（金属、ガラス、プラスチック等）に応じた研磨スラリーの組成の最適設計、材料の選定（砥粒：コロイダルシリカ等、添加剤：エッチング剤、分散剤、界面活性剤、ポリマー等）
■材料の新規探索、サプライヤーとの共同開発、文献・特許調査
■化学的作用モデル（ミクロ、マクロ挙動）、メカニズムの解明
※適正次第で将来的に顧客対応（商品紹介、試験結果聴取、課題対応等）もお任せ致します。
【当社の主な製品について】
・スラリー製品：ナノサイズのセラミックス微粒子、酸・アルカリ、ポリマーが、超純水などで分散された状態の研磨材

【活かせる経験・知見】
・化学の知見（特に下記いずれかの分野歓迎）
物理化学、コロイド化学、界面化学、高分子化学、レオロジー、トライボロジー、溶液化学、反応化学、プロセスシステム工学、電気化学、錯体化学、金属工学、材料組織学、破壊力学、組成力学、腐食防食学、材料加工学、触媒
・半導体、電子デバイス関連の材料開発経験（研磨材、洗浄剤、めっき液等）
・水系洗浄剤、界面活性機能を利用した材料開発経験
・溶媒への固体分散、エマルジョンや固液界面処理にかかわる材料開発経験
・スラリーの組成開発経験

【配属先部署】
書類選考および面接を通じて、ご経験や希望を考慮して決定いたします。
＜下記いずれか＞
・シリコン開発課・・・半導体シリコンウェハー向けの研磨スラリー開発
・半導体新規事業課・・・次世代パワー半導体基板向けの研磨スラリー開発
・CMP開発課・・・半導体デバイス向けのCMP用研磨材の開発
・ディスク開発課・・・ハードディスク基板向けの研磨スラリーの開発

【募集背景】
研究開発投資が10％を超える当社ではさらなる研究開発力の強化を目指しており、商品開発、化学作用モデルの研究探索を一緒に推進してくださる研究人員を募集いたします。



【職種の変更の範囲】当社業務の全般

応募条件

【必須】
■化学／材料分野での研究開発経験が複数年以上ある方
■英語での論文／文献の読み書き、資料作成の実務経験（またはTOEIC目安500点以上）

休日休暇

慶弔休暇　年末年始　夏期休暇　有給休暇　完全週休二日制（土・日）　祝日　ＧＷ休暇　特別休暇　メモリアル休暇

年間休日数

127日

就業時間

08:00～17:00

企業概要

《東証プライム上場：圧倒的な製品シェアを持つ超精密研磨材メーカー》
■シリコン事業：シリコンウェハー研磨材の開発　
■CMP事業：半導体デバイス製造工程向け研磨材の開発
■機能材事業：HDDディスク向け研磨材、LT／LN向け・光学レンズ向け研磨材・ブラスト材、金属表面コーティング向け溶射材
■新規事業：上記技術を軸とした新規研磨材・研磨装置の研究開発
【主な用途】
■エレクトロニクス分野■ハードディスク分野　■光学製品分野　■照明等のLED光源（溶射材事業）■航空機分野 ■鉄鋼分野　■エネルギー分野
【新規事業への取り組み】
安定した事業バランスの構築を目的とし、「パウダー、サーフェス」領域、非半導体分野における新規事業への取り組みを進めています。当社のコア技術である「ろ過・分級・精製技術」「パウダー技術」「ケミカル技術」を活用し、自動車外装向け研磨剤の販売や、航空機エンジン用のセラミックス複合材料（CMC）の開発、化粧品向け等の利用が期待される酸化チタン材料の開発、3Dプリンター用超硬材料の開発などに取り組んでいます。

国内全生産拠点・海外子会社「ISO9001:2008」、国内全生産拠点が「ISO14001」認証取得済／溶射材事業部が航空・宇宙・防衛・品質マネジメントシステム（JIS Q9100）認証取得済

従業員数

1,031人