【神奈川/寒川町】次世代EUVフォトレジスト材料開発エンジニア＜IMプロジェクト＞

職種

製品開発／研究開発(化学)

勤務地

神奈川県高座郡寒川町田端1590　TOK技術革新センター

年収

530万～760万円

仕事内容

〈業務内容〉
◆共通業務（配属初期～半年頃に担当いただく業務）
・社内評価装置を用いた基礎特性評価およびデータ解析
・半導体用レジスト材料の基礎理解
・開発テーマに関する文献調査、技術整理
・社内外関係部署との技術的な情報共有・ディスカッション

◆習熟後に担当いただく業務
化学系バックグラウンドを活かし、レジスト組成設計、原材料設計、有機合成のいずれかを主軸として開発業務に従事していただきます。

・レジスト組成・原材料の設計および性能改善検討
・感度、LWR、欠陥等のリソグラフィ特性改善に向けた開発
・海外パートナー企業（IM社等）との技術協議、共同評価の推進
・顧客向け技術説明、評価サポート
・特許出願に向けた技術整理および権利化対応
・中量産を見据えた材料設計、プロセス検討、サプライヤ連携

本プロジェクト（IM）における開発・顧客対応体制強化のため。
〈ご参画いただくプロジェクトの背景〉
本プロジェクトはIrresistible Materials社（以下、IM社）との共同開発プロジェクトです。
IM社と弊社は、次世代半導体製造に不可欠な EUV向けフォトレジスト（MTR？）の共同開発と事業化を加速するため資本・技術提携を締結しました。
IM社の革新的レジスト技術と弊社の製造体制を組み合わせ、高NA対応、解像度向上、プロセスの効率化およびコスト低減化などの業界課題を解決し、量産化と市場導入を推進していきます。
★IMプロジェクトの公開情報はこちら：
https://www.tok.co.jp/application/files/3217/7189/0559/260224_2.pdf

【会社について】
★85年以上の歴史がある大手化学メーカー。
★穏やかな社員が多く社員定着率も良く平均勤続年数17.1年です。
★自己資本比率70％超と安定経営を実現。
★平均年収865万円と高水準で、有給も取得しやすい環境です。

・半導体レジスト等機能材料で世界トップクラス プライム市場上場
・世界トップレベルの半導体メーカーとの安定的な取引
・『フォトリソグラフィ』による微細加工技術をコア・テクノロジーに、常に最先端の領域に挑戦していきます

半導体デバイスの製造工程では、フォトリソグラフィという技術を用いてシリコンウエハ上に微細な溝を刻み、そこに回路を形成します。私ども東京応化工業はこの工程で使用する様々なフォトレジストの開発・製造・販売を事業の柱として成長してきた企業です。

「半導体用フォトレジスト製品」はグローバルニッチトップ企業100選に認定。海外の売上比率は全体売上の80%近くを占めており、アジアを中心に北米・ヨーロッパのマーケットがメインフィールド。海外を主戦場とした新規事業をつくる動きや、海外事業に資金と人材を投資する動きも活発化。グローバル人材開発にも積極的です。

【当社の価値】フォトレジストの性能を高めると、より微細な溝をウエハに刻むことができ、当社は製品開発を通じて、半導体の集積度向上の歴史に貢献してきました。そして、今後の将来においても更に新規価値を世の中へ発信し続けていくことが使命と思っています。

【グローバルニッチトップ企業100選に認定】当社の「半導体用フォトレジスト」が、戦略性・市場独占性・国際性などを高く評価され、経済産業省による「グローバルニッチトップ企業（電気・電子部門）」に認定されました。

【職種の変更の範囲】当社業務全般

応募条件

【必須】※応募時は可能な限り写真データの共有をお願いします。
■研究開発業務において、自ら課題を設定し、検討/実行/考察を行った経験
■実験データの整理/解析および技術資料の作成経験（※バックグラウンドの専攻が異なる場合でも、化学系企業での開発経験、基礎的な専門知識を有していれば歓迎します）
■英語による技術資料の読解、メールでのコミュニケーションに抵抗がない方

【歓迎】※以下いずれかのスキル、経験、知識を有する方
・半導体材料、フォトレジスト、機能性材料等の研究開発経験
・有機合成、材料合成、または原材料設計に関する実務経験
・材料評価、物性評価、分析（HPLC、NMR 等）に関する経験
・スケールアップ検討、品質設計、製造プロセス検討に携わった経験
・顧客または社内関係部署向けの技術説明、技術サポート経験
・特許出願に向けた技術整理、または知的財産業務への関与経験
・海外拠点、海外企業との共同研究、技術ディスカッション経験（英会話による議論、打ち合わせが可能）

休日休暇

完全週休2日制（休日は土日祝日） 年間有給休暇15日～20日（下限日数は、入社半年経過後の付与日数となります）　慶弔休暇　年末年始　夏期休暇　有給休暇　育児休職制度 他

年間休日数

121日

就業時間

08:30～17:15

企業概要

＜世界首位級のレジスト総合メーカー/国内大手主要5社の1社/生成AIで需要拡大＞
半導体・ディスプレイ等のフォトリソグラフィプロセスで用いられる感光性樹脂(フォトレジスト)・高純度化学薬品を中心とした製造材料、半導体用・ディスプレイ用製造装置などの各種プロセス機器、その他無機・有機化学薬品等の製造・販売しております。
★＜グローバルニッチトップ企業100選に認定＞同社の「半導体用フォトレジスト」が、戦略性・市場独占性・国際性などを高く評価され、経済産業省による「グローバルニッチトップ企業（電気・電子部門）」に認定されました。
◆半導体前工程用フォトレジスト（先端材料Arf、EUV/KrF/G線、i線用材料）
◆半導体後工程関連材料（パッケージ技術/MEMS材料/WHS材料）
◆ディスプレイ材料・その他　（TFT材料/CF材料 他）
◆高純度化学薬品　（シンナー/洗浄液/現像液）
「フォトリソグラフィ」をコアテクノロジーとして最先端の微細加工技術を開拓。
※売上高、従業員数は連結の数字になります。

従業員数

1,996人