【横浜】プロセス開発エンジニア（成膜） ※エピタキシャル成長装置

職種

生産技術(化学)

勤務地

神奈川県横浜市磯子区新杉田町8番1

年収

670万～1,500万円

仕事内容

【職務内容】
エピタキシャル成長製造装置開発の成膜のプロセス開発を行っていただきます。
■シリコン、GaN、SiC膜の成膜方法（レシピ）の開発と測定機による評価
■装置の開発、客先でのデモンストレーション、メンテナンス、トラブル対応
■プロセスに関する客先でのプロセス仕様打合せ、装置立上、客先でのプロセス支援

※海外顧客の場合海外出張いただき、顧客先でレシピの調整を行います

【エピタキシャル成長製造装置の特徴】
1) ウェーハの高速回転による高速かつ均一性の高い成膜
2) 緻密に設計された垂直方向のガスフローによる均一なガス濃度分布
3) 高精度な面状ヒーターに非接触で配置することで高い温度均一性と高速昇降温特性

上記コア技術が実現することで高品質エピタキシャル成長層の形成を可能としております。
プロセス担当はこれらコア技術が顧客要望通り実現しているかを測定器などを使用して検証し、エラーの原因はレシピなのかハードなどかを突き詰め改善を行っていきます。

【業務で使用するツール】
測定機操作　(SEM、欠陥検査、膜厚、XRD等）

【入社後お任せしたい業務】
上記業務内容を先輩社員がOJTでついて教育を行いながら、デモ機をもとに装置の扱い方やレシピの開発・調整方法をキャッチアップいただきます。

【配属組織について】
TFW装置技術部 研究開発グループ

■組織構成：約30名
メンバーの半数以上がキャリア入社、20代・30代が6割を占めている組織となります

■組織のミッション
エピタキシャル半導体製造装置は現在国内外の顧客より多くの注文をいただいておりますが、この販売台数を最大化することがミッションとなっております。

拡大のためには、顧客先ごとで成膜で使用するガスの種類が異なっているため、プロセスが異なるため、顧客ごとにニーズを満たすレシピの作成・プロセスを立ち上げることが重要となっております。
さらに今後はウェハーのサイズが大きくなることから、自動搬送のニーズが高まり、自動搬送の機械設計・ソフトウェア設計が求められております。

【働き方】
・部署の平均残業時間：約20時間／月
・リモートワーク：有　（週に約1日在宅勤務）
・海外出張：有　年に2～3回、出張期間は1か月～3か月

【職場の魅力】
・電気自動車で使用される充電器や、通信技術の5G、6Gなどの基地局はエピタキシャル装置で製造されるパワー半導体がなければ急速充電あるいは高速通信ができないため注目されております。
・またパワー半導体は省エネの部分においても、脱炭素推進が可能なものとして注目をされております。
・また非常に入手困難な8インチSiCを製造しているメーカーに対して、同社装置を納入できているため、最先端かつ技術の高さで競合他社と差別化ができております。

応募条件

【必須】
・国内外への長期出張が可能な方
・エピ成膜に興味がある方

【歓迎】
・半導体の製造等において何らかの成膜経験がある方
・半導体製造装置（CVD装置）を使用した成膜経験がある方
・半導体製造装置（CVD装置）で使用されるガスや、真空装置の取り扱い経験がある方
・英語でのコミュニケーションが可能な方

休日休暇

完全週休二日制（土日）、祝日、年次有給休暇（初年度　入社時1～19日（入社月による）※最大24日　繰り越し含め最大48日）、夏季休暇、特別休暇、育児・介護休暇制度

年間休日数

125日

就業時間

08:45～17:30

企業概要

＜＜最先端半導体製造装置の設計、開発、製造、販売、保守サービス＞＞　★半導体の未来をリードし続けます
◆電子ビームマスク描画装置：5nm先端マスク量産対応の電子ビームマスク描画装置
◆マスク検査装置：最先端デバイスhp20nm以降世代の扉を開く技術を結集した最先端マスク検査装置
◆エピタキシャル成長装置：数μmから150μｍ以上の膜厚まで高速で連続成膜が出来る高効率・省エネ型の画期的なエピタキシャル成長装置（パワー半導体の製造工程に使用されます）
【特長】 半導体デバイスの微細化技術をリードする最先端の電子ビームマスク描画装置(EBM)を設計、開発を中心とした半導体製造装置メーカーです。
【就業環境】 平均残業時間25h/月、有給休暇の平均取得日数17.6日とワークライフバランスが充実しており、離職率も低く、長期的に就業できる環境が魅力です。平均年収：832万円

従業員数

799人