日新イオン機器株式会社
- 情報更新日: 2025年08月13日
- 求人ID No.0248722
【滋賀】半導体及び液晶用イオン注入装置に関する営業技術
求人情報
- 職種
- FAE/サービスエンジニア(機械)
- 勤務地
- 滋賀県甲賀市水口町ひのきが丘29 滋賀事業所
- 年収
- 450万~800万円
- 仕事内容
- 弊社の半導体及び液晶用イオン注入装置における技術営業として、お客様へ装置を納入した後の技術窓口業務をご担当していただきます。
【詳細内容】
・国内、海外のお客様からの問い合わせ対応(電話、メール、顧客訪問)、各種対応を 通じたお客様ニーズの把握及びお客様ニーズを踏まえた装置性能、生産性の改善、改良のための保守内容の検討、提案
・部内の設計、開発関連チームと連携したトラブルシューティング及び技術サポートの提供
・部内のフィールド技術チームと連携した装置の操作方法及び保守点検に関するお客様向けトレーニングの提案
・技術資料の作成及び更新
※海外のお客様については、弊社海外現地法人を通じて行います。
【当社について】:
■当社は半導体/ディスプレイ関連の機械装置メーカーとして、設計・開発から製造・販売・アフターサービスまでを全て一貫して行っている会社です。1973年の事業開始以来、高機能半導体製造用途においてはこれまで約1000台を世界各地の大手半導体メーカーや電機メーカーへ納入しています。またディスプレイ製造用途においては半導体製造用途で培った技術力を活かし1988年に事業をスタート、今では当社装置はスマートフォンやタブレット端末向けの高輝度・高精細ディスプレイ製造に不可欠なものと位置づけられ、世界シェア100%で市場を独占するに至りました。
■2020年8月、イノベーションの拠点となる新棟「LINK SQUARE(リンクスクエア)」を滋賀事業所内に竣工。これまで京都・滋賀に分散していた開発・設計・製造・顧客サービス部門を統合し、開放的で快適なオフィス環境の下、よりユニークでより付加価値の高い技術・製品・サービスの創出・提供に取り組んでいます。
■日新電機株式会社(住友電工グループ)の100%子会社です。親会社と同等の福利厚生制度や独自の労働組合を有し、また誰とでも「○○さん」と呼び合うフランクで風通しの良い社風や新卒採用者定着率の高さなど、安心して業務に打ち込める環境が整っています。
【変更の範囲】会社の定める業務
- 応募条件
- 【必須】
・折衝、社内調整、技術営業のご経験がある方。または当業務に興味関心が高い方
・国内外への出張が可能な方
【歓迎】
・機械装置の組立・配線・搬入・現地組立・調整作業の業務のご経験
(機械装置の配線図や機械図面の読解力)
・社内外含めた調整業務のご経験
・英語の読み書き能力(技術ドキュメントの理解、海外のお客様とのやり取りが発生する場合がございます。応募時点で必須となりませんので、英語を学ぶ意欲がある方は是非ご応募ください。)
・グローバルに活躍されたい方
- 休日休暇
- 年次有給休暇(入社初日より入社月に応じて1~17 日付与)、慶弔休暇、誕生日休暇、ゆとり休暇、産前産後休暇、配偶者の出産休暇、介護休暇、育児・介護休業、育児・介護短時間勤務制度
- 年間休日数
- 128日
- 就業時間
- 08:30~17:00
企業情報
- 企業概要
- 日新電機株式会社(住友電工グループ)の100%子会社。半導体/ディスプレイ関連の機械装置メーカーで設計・開発から製造・販売・アフターサービスまでを全て一貫して行っている会社です。1973年の事業開始以来、高機能半導体製造用途においてはこれまで約1000台を世界各地の大手半導体メーカーや電機メーカーへ納入しています。またディスプレイ製造用途においては半導体製造用途で培った技術力を活かし1988年に事業をスタート、今では当社装置はスマートフォンやタブレット端末向けの高輝度・高精細ディスプレイ製造に不可欠なものと位置づけられ、世界シェア100%で市場を独占するに至りました。2020年8月、イノベーションの拠点となる新棟「LINK SQUARE(リンクスクエア)」を滋賀事業所内に竣工。これまで京都・滋賀に分散していた開発・設計・製造・顧客サービス部門を統合し、開放的で快適なオフィス環境の下、よりユニークでより付加価値の高い技術・製品・サービスの創出・提供に取り組んでいます。
【事業概要】
■装置事業:半導体製造用イオン注入装置、FPD製造用イオン注入機器
■カスタマーサービス:定期点検サービス、装置移設サービス、装置改造・改良サービス、緊急修理対応サービス、部品供給サービス
■イオン注入サービス:シリコンデバイスへの高精度・高清浄度イオン注入、SiC & GaN & Ga2O3 パワーデバイスへの高温Al+、Si+、Mg+ 注入、高濃度水素注入によるGaN、SiC スマートカット、高エネルギー水素注入「VCSEL (Vertical cavity surface emitting LASER)」、特別なイオン種等を用いた先端プロセス開発
- 従業員数
- 314人
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