光学検査装置の機械設計（光学ユニット）＜B-10-2＞

職種

機械設計

勤務地

神奈川県横浜市磯子区新杉田町8番1

年収

420万～1,100万円

仕事内容

フォトマスク検査装置の光学メカ設計を中心とする精密メカ設計業務を担当して頂きます。
【業務内容】
フォトマスク検査装置の光学系を中心としたメカ設計を担当して頂きます。光学設計担当と議論しながら、レンズ・ミラー等の光学素子の保持機構を設計し、現場で製造担当ともやり取りしながら限られたスペースで作業性を確保した配置となるように設計しています。量産装置の作業性改善・製造LT改善・生産中止対応という特定箇所の改善設計業務から、機能追加や性能向上のための光学系改造に伴う開発設計変更のいずれにも関わって頂けます。
上記業務には設計承認に向けた仕様検討、代替部品の検討、検討に基づく図面作成・手配業務、必要に応じて手配部品の評価・資料作成・報告の業務を含みます。

【業務の魅力】
半導体の微細化に伴い、マスク検査装置は半導体デバイス製造に欠かせない装置であり、高分解能で高速の検査装置が必要となります。弊社のマスク検査装置において、電気設計に携わって頂きます。検査装置での設計業務では、深紫外レーザ光源、光学系、精密メカ設計などの様々な分野の技術が総合的に必要となるため、各分野の専門家と仕事を進めて行くことでスキルアップを図る事が可能です。また、最先端の検査技術に触れる事で、様々な技術的知見を得る事が出来ます。
【入社後お任せしたい業務】
入社半年：ベテランエンジニアとともに1つの設計案件を担当してもらう予定です。
入社1年度：少なくとも1つ、メイン担当を担って頂く予定です。
入社3年度～：光学メカ設計の取りまとめ・リーダーとして活躍して頂きたい。
【教育体制】
社内共通研修後、OJTと並行して、東芝Gの研修や社外研修にも参加していただくことが可能です。
【使用するツール】
SolidWorks、AutoCAD
【組織構成】
検査装置技術部　設計G：23名
正社員、派遣社員が約半々の割合となっております。女性1名。
年齢層：20代：5名　30代：4名　40代：6名　50代：5名　60代：3名
業務役割について：メカ設計：8名　電気・制御：7名　光学・画像評価：7名　マネージャー：1名
【組織のミッション】
当社は、フォトマスク検査装置市場での競争優位を確立し、売上拡大を目指します。半導体の微細化に伴い、EUVリソグラフィ対応の高精度検査技術を強化し、さらなる高精度化を目指すとともに、量産世代をターゲットとした検査装置の高速化を図ります。
設計グループは、高精度な設計、迅速な開発、技術力の強化、安全性の確保を柱とし、フォトマスク検査装置の競争力を高め、持続的な売上拡大に貢献していきます。
【働きかた】
・部署の平均残業時間：約20時間／月
・リモートワーク：平均利用頻度　2日/週　※業務に支障がない範囲で利用可
・フレックス勤務：業務に合わせて柔軟に利用可能

応募条件

【必須】
・機械設計業務を3年以上ご経験された方
・2D/3DCADの使用経験
【WANT】
・半導体製造装置での設計業務経験
・光学関連装置での設計業務経験
・ANSYS、I-deas、Inventorの使用経験

休日休暇

完全週休二日制（土日）、祝日、年次有給休暇（初年度　入社時1～19日（入社月による）※最大24日　繰り越し含め最大48日）、夏季休暇、特別休暇、育児・介護休暇制度

年間休日数

125日

就業時間

08:45～17:30

企業概要

＜＜最先端半導体製造装置の設計、開発、製造、販売、保守サービス＞＞　★半導体の未来をリードし続けます
◆電子ビームマスク描画装置：5nm先端マスク量産対応の電子ビームマスク描画装置
◆マスク検査装置：最先端デバイスhp20nm以降世代の扉を開く技術を結集した最先端マスク検査装置
◆エピタキシャル成長装置：数μmから150μｍ以上の膜厚まで高速で連続成膜が出来る高効率・省エネ型の画期的なエピタキシャル成長装置（パワー半導体の製造工程に使用されます）
【特長】 半導体デバイスの微細化技術をリードする最先端の電子ビームマスク描画装置(EBM)を設計、開発を中心とした半導体製造装置メーカーです。
【就業環境】 平均残業時間25h/月、有給休暇の平均取得日数17.6日とワークライフバランスが充実しており、離職率も低く、長期的に就業できる環境が魅力です。平均年収：832万円

従業員数

799人