HC【横浜】検査装置の画像処理アルゴリズム開発（検査装置技術部）【23_B-5】

職種

画像／通信

勤務地

神奈川県横浜市磯子区新杉田町8番1

年収

400万～1,100万円

仕事内容

下記の業務を担当していただきます。
・電子線検査装置の検査ソフトウエア開発・設計業務

-検査前処理：位置合わせ、補正パラメータ抽出

-検査後処理：欠陥判定、欠陥分類、検査結果生成
・電子線検査画像の画像処理、及び欠陥検出アルゴリズム開発業務

-欠陥検出アルゴリズム

-基準画像生成アルゴリズム
※入社時はスキル、経験を考慮して上記業務のいずれかを担当していただきます。

応募条件

【必須】
下記いづれかのご経験（実務経験5年程度以上）
・音声、画像、データ等の解析に関わるアルゴリズム開発の経験がある方
・数学/物理シュミレーションを用いた実務経験　
【歓迎】
・Linux環境でC/C++を含む言語を使用したソフトウェア開発の経験がある方
・機器制御を伴うソフトウェアの開発経験がある方
・画像解析や数値解析のアルゴリズム開発の経験がある方
・組み込み系のファームウェアの開発経験がある方

休日休暇

完全週休二日制（土日）、祝日、年次有給休暇（初年度　入社時1～19日（入社月による）※最大24日　繰り越し含め最大48日）、夏季休暇、特別休暇、育児・介護休暇制度

年間休日数

125日

就業時間

08:45～17:30

企業概要

＜＜最先端半導体製造装置の設計、開発、製造、販売、保守サービス＞＞　★半導体の未来をリードし続けます
◆電子ビームマスク描画装置：5nm先端マスク量産対応の電子ビームマスク描画装置
◆マスク検査装置：最先端デバイスhp20nm以降世代の扉を開く技術を結集した最先端マスク検査装置
◆エピタキシャル成長装置：数μmから150μｍ以上の膜厚まで高速で連続成膜が出来る高効率・省エネ型の画期的なエピタキシャル成長装置（パワー半導体の製造工程に使用されます）
【特長】 半導体デバイスの微細化技術をリードする最先端の電子ビームマスク描画装置(EBM)を設計、開発を中心とした半導体製造装置メーカーです。
【就業環境】 平均残業時間25h/月、有給休暇の平均取得日数17.6日とワークライフバランスが充実しており、離職率も低く、長期的に就業できる環境が魅力です。平均年収：832万円

従業員数

799人